三星计划削减对 High-NA EUV 光刻机的采购,并与 ASML 共同创建的研究中心项目遇到困难。原本三星计划在未来 10 年内采购多款 High-NA 光刻机,但现在仅计划采购 EXE:5200。这一决定是在公司高层人事变动和项目审查后做出的。同时,相关研究中心的建设进程也因设备引进减少而停止。研究中心的未来位置和是否继续建设将在进一步讨论中决定。
您的电子邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注
评论 *
显示名称 *
电子邮箱地址 *
网站
在此浏览器中保存我的显示名称、邮箱地址和网站地址,以便下次评论时使用。
Δ